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1200度小型PECVD係統
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- 商品名稱: 1200度（dù）小型PECVD係統
- 商品編號（hào）: 1034427143204724736
PECVD係統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局（jú）部（bù）形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD係統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD係統PECVD-12IH-4Z/G
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產品用途
PECVD係統是借（jiè）助射頻使含有薄膜（mó）組成原子的氣體電（diàn）離，在局部形（xíng）成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望（wàng）的薄膜。
產品組成
PECVD係統配置；
1.1200度開（kāi）啟式滑動單溫區真空管式爐（lú）
2.等離（lí）子射頻（pín）電源
3.多路質量流量控製係統
4.真空係統（單獨購買）
產品特點
電源範圍廣；溫度範圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，複合薄膜等的（de）理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
係統名稱
集成（chéng）型PECVD係統（tǒng）
1200℃小型（xíng）PECVD係統
係統型號
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控製方（fāng）式
液晶屏微PLC控製係統（tǒng）
手動
溫度
1200℃
加熱區長度
200mm
恒（héng）溫區長度
100mm
溫區
單溫區
石英（yīng）管管徑
Φ60mm
Φ50mm
額定功率
1.2Kw
2Kw
額定（dìng）電壓
220V
滑動方式及距離
自動滑動;200mm
手動滑動;200mm
溫度控製
30段程序控溫
50段程序控溫
控製精度
±1℃
爐管工作（zuò）溫（wēn）度
＜1200℃
氣路法蘭
采用多環密封（fēng）技術卡箍快速連接
排（pái）風（fēng）冷卻裝置
先進的空氣隔（gé）熱技術，結合熱感應技術，當爐體表麵溫升到（dào）50℃時，
排溫風扇將自動啟動，使爐體表麵快速降溫。
氣體控製方式
質量流量（liàng）計（jì）（按鍵式）
氣路數量
2路（2-4路）
4路（可根據具（jù）體需要選（xuǎn）配氣路數量）
流量（liàng）範圍
0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標（biāo）定（dìng）
精度
±1%F.S
響應時間
1sec
工作溫（wēn）度（流量計）
20-120℃
工作壓力
進氣壓力0.05-0.3Mpa(表（biǎo）壓力）
進氣方式
采用防倒流（liú）設計
規格
中真空（集成型請單獨購買）
係統真空範圍
10Pa-100Pa
真空泵
雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出（chū）氣口配有油汙過濾器，額定（dìng）電壓220V，功率0.55Kw
信號頻率
13.56MHz±0.005%
功率輸出範圍
0W-500W
0W-100W
反射功率
350W
30W
射頻輸出（chū）接口
50Ω，N-type,temale
功率穩定（dìng）度
±0.1%
諧（xié）波分（fèn）量
≤-50dbc
供電電（diàn）壓
單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ
整機功率
≥70%
屏幕顯示
正方向功率，匹配（pèi）器電容位置，偏置電壓值
爐體外形尺（chǐ）寸（cùn）
290×350×340mm
290×350×495mm
係統外形尺寸（cùn）
420×1440×1100mm
530×2310×750mm
係統總重量
270Kg
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