— 產品分類 —
選擇（zé）高溫管式爐生產廠家的要點（diǎn） 一、依據產品質量（liàng）相（xiàng）關因素 工作溫度適配（pèi）性 若工作溫度要求小於1200°C，可選（xuǎn）擇爐管為石英管（guǎn），加熱元件是含鉬電阻絲的管式爐；若工作溫度大於1200小於1400，可選擇爐管為氧化鋁，加熱（rè）元件是矽碳（tàn）棒的管式爐；若工作溫度大於1400小於1700，能（néng）夠選擇爐管為氧化鋁，加熱元件是矽鉬棒的管式爐。
2024
11-13
在科研與材料開發的廣闊天地裏，實驗室設備扮演著至關重要的角色，它們不僅是科研探索的基石，更是技術（shù）創新的重要推手。在眾多實驗室設備中，1800℃箱式電爐以其高溫處理能力、精確的溫度控製以及廣泛的應用領域，成（chéng）為了材料科學、冶金工（gōng）程、陶瓷製備等多個領（lǐng）域不可或缺的利器。本文將深入探討1800℃箱式電（diàn）爐在實驗室中的應用，從其工作原理、結構特點、操作要點、維護保養到（dào）實際案例分析，全方位展現（xiàn）這一高科技設備的魅力。
2024
11-11
高溫接觸角測量儀是一種（zhǒng）專門設計用於在高溫環境下測量液體（tǐ）與固體表麵（miàn）之間接觸角的儀器。這種設備在多個領域中發揮著重要作用，以下（xià）是其主要應用及（jí）其用途的詳（xiáng）細介紹。
2024
11-08
高溫氣氛箱式電爐是一種在特定氣氛環境（jìng）下進行高溫處理的設備，廣泛應用（yòng）於材料科學、冶金、化工及電子等領域。它通過精確控製爐內溫度、氣氛成分及壓力等參數，實現對材料的加（jiā）熱、保溫、冷卻等（děng）全過程，有效避免材（cái）料（liào）在高溫處（chù）理（lǐ）過程（chéng）中發生氧化（huà）、腐蝕等不良反應，保證材料性能（néng）的穩定與提升。
2024
11-06
CVD化（huà）學氣相（xiàng）沉積係統的應（yīng）用領域（yù）介紹
化學氣相沉積（CVD）係（xì）統是一種先（xiān）進的薄膜沉積技術，廣泛應用於多個（gè）高科（kē）技領域。以下是CVD係統（tǒng）的一些主要應用（yòng）：半導（dǎo）體工業 CVD技術在半導體工業中應用最為（wéi）廣泛，用於沉積多種材料，包括絕（jué）緣材料、金屬材（cái）料和金屬合金材料。例如，氮化矽膜（Si3N4）可以通過矽烷和氮（dàn）的反應形成。
2024
11-04
超潔淨真空氣氛燒結爐（lú）的（de）應（yīng）用及其介紹
超潔（jié）淨真（zhēn）空氣氛燒結爐的產品優勢 1、材料純度方麵 在真空環（huán）境下，材（cái）料不會與氧氣或其他氣體（tǐ）發生化學反應，因此能夠保持材料的純（chún）度，避免雜質對材料性能的影響。 2、產品質量（liàng）方麵 真空燒結提供了均勻的溫度場，確保了材料在燒結過程中的一致性（xìng）和均勻性，從而提高了產品的質量和性能（néng）。 3、能源利用方麵 由於真空燒結爐在真空環境下工作，熱（rè）量損失較小，從而提高了能源的利用率。
2024
10-31
